Initial images suggest similarities withTSMC’s 7nm process technology.
此文一出，也讓市場有一股風向指涉中芯「抄襲」台積電。對此，台積電並未表示任何評論，然而根據匿名消息指出，台積電法務部門已經開始對此事進行了解，同時，也已針對此報告進一步分析。
市場人士指出，Tech Insights 是歷史悠久、具公信力的研調公司，就連台積電也固定購買該公司報告，作為掌握市場脈動的來源之一。
▲中芯7 奈米已出貨，台積電勢必要針對此事進行內部檢視，為何7 奈米晶片的相關資料洩漏出去？示意圖。（資料照，顏麟宇攝）
一份研究報告，再掀中芯侵權爭議
另一引起市場討論的是，台積電是否可能因此事件再次提告中芯？業內人士觀察，提告與否還需要更多具體訊息， 但可以確定的是，台積電勢必要針對此事內部做review（檢視），為何7 奈米晶片的相關資料洩漏出去？
台積電在2017 年中就已試產7 奈米， 2018 年第二季量產，在市面上不難取得7 奈米的樣品；盡管如此，業內人士分析，關鍵還是要看該報告所指的7 奈米晶片結構，是否跟台積電的結構及材料一模一樣。業內人士認為，不管中芯多麼用力copy（抄襲）台積電，也一定會有地方不一樣，因為兩家公司機台參數必然不會完全相同。
然而，此報告尚未全文曝光，目前市場上僅流傳10 頁的簡要版本；此外，報告內容中的晶片僅有俯瞰圖、並無截面圖，資深產業分析師指出，後者才能有進一步的晶片架構和材料分析，也才能確認中芯國際的產品究竟是否和台積電7 奈米晶片一模一樣。
台積電曾在2002 年及2006 年分別提告中芯抄襲，最終於2009 年達成和解， 中芯的條件是賠償2 億美元、及讓與8％ 股權，換言之，台積電大獲全勝。業內人士認為，雖然台積電提告中芯曾獲得勝訴，但是否有此必要再次打法律戰？ 根據專利律師指出，專利訴訟曠日費時、開銷十分龐大，若非影響到公司最仰賴的產品線，大多會是以戰逼和、尋求和解收場。
沒有EUV，中芯也能做得出7奈米？ 另一市場關注焦點著墨7 奈米製造的可能性，從半導體製造技術層面來看，在不需要EUV 曝光機下，亦可生產7 奈米，換言之，中芯可製造7 奈米的能力，倒是可以不用懷疑。 報告指出，在美國禁令下，中芯國際在先進製程設備使用受到限制；三星和台積電的7 製程節點本就不需要使用EUV 曝光，但必須用更高的成本，和更為複雜的設計規則來交換。 報告原文如下： SMIC will not likely have that evolution option in the near-to medium term and will continue to evolve the 7nm node without that capability, at the cost of increasing complexity （and resulting yield issues）. 上述內容指涉一個可能事實，在中芯被禁用艾司摩爾EUV 曝光機前提之下，仍舊成功量產7奈米，但中芯製程複雜性和最關鍵的良率，仍然不明。也因此，市場揣測，中芯可能方法是使用較為落後的DUV（深紫外光）曝光機量產7奈米。 簡單來說，先進製程的EUV（ExtremeUltraviolet Lithography，極紫外光）是一次性曝光，而DUV（Deep UltravioletLithography，深紫外光）只能反覆曝光，較為耗費人力，製程也會因此更為冗長。 也有一說，中芯透過逆向工程（reverse engineering ）來拆解和抄襲台積電7 奈米晶片。業內人士指出，逆向工程是科技業界很例行的工作，這和侵權的行為相去甚遠。 業內人士表示，無論是否提告侵權，可以確定的是，由於報告中提及該晶片結構和台積電7 奈米晶片相似，台積電不可能對此案置之不理。 閱讀完整內容
